壓鑄煉鐵廠尾氣處置電子設備技術特征：

可根據相同工藝段尾氣的特征，設計選用相同的強針對性的工藝技術；復合式工藝極大的提升了尾氣治理工作效率。

高溫激重氮反應的其本質是借助電場中的高能量電子炮擊氮氧化物大分子，使之共價鍵斷裂，逐步形成特異性粒子后再與其他雙鍵重新排列逐步形成更平衡的無污染化學物質的操作過程。

重氮化學反應的其本質是借助武藝高光線場紫外光，污染化學物質吸收正電子的能量出現正電子，使其處于極不平衡的基態，然后再與催化劑造成的特異性雙鍵化學反應，生成無污染化學物質的操作過程。

重氮能大大推動高溫激光的化學反應效果與速度，同時，高溫激光中電場中的特異性離子和陰離子也能推動重氮化學反應的快速、有效的進行，二者相互推動，相得益彰。

兩個Rampur的相互作用，使化學反應工作效率提升了10至100倍，同時大大增加了項目產品的耗電。

具有以下特征： 工藝控制系統的處置工作效率很高，并且很平衡； 初期投資服務費不高，運行服務費低，維護保養簡單， 工藝控制系統容易操作，占地小，且科折粉工藝處置后無滲漏。

壓鑄煉鐵廠尾氣處置電子設備工藝流程說明：

（1）氣溶膠歷經管線收集，在步入氣溶膠治理電子設備之前先歷經管線冷卻系統粗濾，防止大臭氧步入處置電子設備，給電子設備造成影響。

（2）氣溶膠粗濾后步入預處置組件，預處置組件選用煙氣分離板構造，將氣溶膠中參雜的石蠟、粉塵除去。

（3）歷經預處置組件除煙氣后，氣溶膠步入電子設備的核心處置區域----激光再生區，激光再生選用注入式激光出現器。外界自然風經高溫激光出現器，得到激光體送入激光再生區。在激光再生區，大部分氣溶膠大分子被激光體炮擊、水解后變成無污染、淡黃色和乳白色的氣體。

（4）參雜著部分高溫激光體的氣溶膠到達重氮組件。武藝高強紫外光場對氣溶膠成分有破壞作用并造成活潑的病害還原劑；氣溶膠成分在還原劑和光的協同作用下持續出現水解分解，終身成二水解碳和水。

（5）NVIDIA再生組件設有順流而下循環式除塵控制系統、錯流循環式除塵控制系統、引力下陷、對撞除塵、氣流均布器，可以除去細微粉塵，滿足排放標準。