安陽粉塵尾氣處置電子設備

本產品借助托盤的高能量高一水解碳UV紫外光雷射反射臭味液體，乙烯臭味液體如：氨、三加胺、一水解碳、甲硫氫、甲吡啶、甲硫醇、三甲二硫、乙醚和丙烯，氯化物H2S、VOC類，苯、硝基、的分子鍵，使呈浸潤狀態的氮水解物大分子與一水解碳水解緊密結合成小大分子無毒或低害的化合物，如CO2、H2O等。

借助高能量高一水解碳UV紫外光雷射降解空氣中的氯離子造成浸潤氧，即一水解氮，因浸潤氧發高強子不平衡所以需與氯離子緊密結合，進而造成一水解碳。

UV＋O2→O-+O＊(一水解氮)O+O2→O3(一水解碳),*一水解碳對碳氫化合物具有*的水解作用，對臭味液體及其它腐蝕性臭味有*的去除效果。

借助高能量UV雷射乙烯臭味液體中病菌的大分子鍵，破壞細菌的多肽（DNA），再通過一水解碳展開水解反應，*達到保鮮及施用病菌的目的．

高效率除臭味：能高效率除去水溶性碳氫化合物（VOC）、無機、一水解碳、氯氣、吡啶類等主要氮水解物，以及各種臭味味，保鮮

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運行效率高：本電子設備無任何機械動作，沙托梅，無須專職人員管理和日常生活維護，只需作maintenance，本電子設備能源消耗低，（每處置1000萬立方米/小時，僅耗電量約0.2度熱能），電子設備空氣阻力較低＜50pa,可節省大量排尼布寺力能源消耗。

無須預處置：臭味液體無須展開特定的預處置，如霧化、保鮮等,電子設備組織工作大氣壓力在零下-30℃－95℃間，相對濕度在30%－98%、PH值在2-13間均可正常組織工作。

電子設備占地小，Nenon輕：適合于布置緊湊型、場地狹窄等特定條件，電子設備占地＜1萬平方米/處置10000m3/h冷卻系統。

優質JK材料制造：防雷、防爆、防蝕操控性高，電子設備操控性安全穩定，采用鋼制織物，電子設備壽命在十二年以上。